เป้าหมายไทเทเนียม

เป้าหมายไทเทเนียมเป็นวัตถุดิบหลักที่ใช้ในกระบวนการสปัตเตอร์ด้วยการสะสมไอทางกายภาพ (PVD) อนุภาคพลังงานสูงกระหน่ำโจมตีพื้นผิวของมัน ทำให้เกิดการสปัตเตอร์อะตอมหรือไอออนของไทเทเนียม ทำให้เกิดฟิล์มไทเทเนียมหรือสารประกอบไทเทเนียมที่มีความบริสุทธิ์สูง ประสิทธิภาพสูงบนพื้นผิว

▸คุณสมบัติหลักและข้อมูลจำเพาะทางเทคนิค:
1. ความบริสุทธิ์สูงเป็นพิเศษ: มีจำหน่ายในระดับความบริสุทธิ์ที่แตกต่างกัน ตั้งแต่ 99.99% (4N) ถึง 99.9999% (6N) เป้าหมายเหล่านี้ตรงตามข้อกำหนดด้านสิ่งเจือปนที่เข้มงวดในการใช้งานต่างๆ และรับประกันการนำไฟฟ้า ความต้านทานการกัดกร่อน และความเข้ากันได้ทางชีวภาพที่ดีเยี่ยม
2. ขนาดและน้ำหนักที่ปรับแต่งได้: รองรับการผลิตที่ปรับแต่งได้อย่างเต็มที่ ขนาดและน้ำหนักสูงสุดสามารถออกแบบและผลิตได้เพื่อให้ตรงตามห้องอุปกรณ์ของลูกค้า ข้อกำหนดของกระบวนการ และกำลังสปัตเตอร์โดยเฉพาะ ทำให้กระบวนการมีความยืดหยุ่นสูงสุด
3. บรรจุภัณฑ์แบบมืออาชีพ: บรรจุอย่างปลอดภัยในลังไม้หรือพาเลทไม้ เป้าหมายที่มีมูลค่าสูงและมีความแม่นยำสูงเหล่านี้ ได้รับการปกป้องจากความเสียหาย การปนเปื้อน และการเสียรูประหว่างการขนส่งและการจัดเก็บ ซึ่งเป็นไปตามมาตรฐานการขนส่งทางอุตสาหกรรม

▸ขอบเขตการใช้งานหลัก:
1. จอแสดงผล LCD (จอแสดงผลคริสตัลเหลว): ใช้สำหรับสะสมอิเล็กโทรด (เช่น ประตู แหล่งกำเนิด/ท่อระบาย) หรือชั้นกั้นในอาร์เรย์ทรานซิสเตอร์ฟิล์มบาง (TFT) ซึ่งมีความสำคัญอย่างยิ่งในการแสดงประสิทธิภาพและผลผลิต
2. อุปกรณ์การแพทย์และการปลูกถ่าย: ใช้สำหรับติดฟิล์มบางไทเทเนียมหรือไทเทเนียมไนไตรด์ที่มีความบริสุทธิ์สูงบนพื้นผิวของอุปกรณ์ทางการแพทย์ เช่น ข้อต่อเทียม สกรูยึดกระดูก รากฟันเทียม และขดลวดหลอดเลือดหัวใจ ซึ่งช่วยปรับปรุงความเข้ากันได้ทางชีวภาพของผลิตภัณฑ์ ความต้านทานการสึกหรอ ความต้านทานการกัดกร่อน และการรวมตัวของกระดูกได้อย่างมีนัยสำคัญ